中國專利與商標是部級期刊； 暫無影響因子數據。。

中國專利與商標雜志 創刊于1985年， 目前以季刊形式發行， 是一本由中國專利與商標雜志社主辦， 中國專利與商標雜志社主管的部級期刊。

編輯部地址：北京西城區樺皮廠胡同2號國際商會大廈16層

郵編：100035

雜志往年影響因子、被引次數統計表

關于影響因子的名詞解釋

影響因子：指該期刊近兩年文獻的平均被引用率，即該期刊前兩年論文在評價當年每篇論文被引用的平均次數。

綜合影響因子：是以基礎研究、技術研究、技術開發類科技期刊及引證科技期刊的人文社會科學基礎研究、應用研究和工作研究期刊作為期刊綜合統計源文獻計算，被評價期刊前兩年發表的可被引文獻在統計年的被引用總次數與該期刊在前兩年內發表的可被引文獻總量之比。